近年来，我国半导体行业发展有了很大的进步，其中惠及了晶圆代工、存储、高新设备、应用材料及其他许多下游产业。金沙js5线路单片机开发工程师表示，半导体芯片是信息技术行业的基石，但是目前国内的集成电路主要仍依赖进口。

一、什么是极紫外（EUV）光刻技术？

极紫外（EUV）的全称为“极紫外线光刻”，英文全称为Extreme Ultra-Violet。金沙js5线路单片机开发工程师解释说，该技术使用波长非常短的光，以更快、更准确地刻蚀晶圆。举个简单的例子，我们将旧的技术想像成毛笔写字，将EUV光源想像成钢笔，两者在同一张纸上写字，钢笔可以写的字更多。对EUV技术来说，它可以生产更小的晶体管尺寸，从而使处理器和其他电子设备更便宜、更强大、更节能。

金沙js5线路单片机开发工程师表示，使用EUV光刻技术，可以使芯片更便宜、功能更强大、速度更快且功耗更低。特别是近年来飞速发展的物联网（IoT）和5G以及AI和机器学习所需的高科技组件，半导体光刻技术的纳米级节点正成为其中的关键。

在EUV光刻领域中，全球主导者是荷兰公司ASML，该公司主要为英特尔、三星、台积电等“三大”全球半导体制造商提供设备和相关技术。

英特尔创始人之一戈登·摩尔（Gordon Moore）曾提出一个规律，叫做摩尔定律，它不是物理和自然法则。戈登·摩尔观察到，集成电路中晶体管的数量大约每两年翻一番，并预测这种趋势将无限期地持续下去。

为了遵循摩尔定律，ASML一直在探索进一步减小晶体管尺寸（通常称为节点尺寸）的方法，并且在EUV光刻领域取得了长足的进步。目前，ASML的最新的光刻设备可以更精确、更高效地生产半导体在较小的晶体管规模上，节点尺寸约为7nm，甚至更小的5nm。

二、EUV光刻技术的应用市场

EUV光刻的两个主要应用市场是智能手机和电脑处理器，其中功耗、尺寸和效率是重要因素。例如，对于智能手机，骁龙865芯片为7nm节点大小的处理器，而iPhone 11的A13为7nm节点大小的处理器。另外，华为的麒麟980处理器也是使用7纳米节点工艺。

三星近期发布了其用于3nm栅极全能（GAA）工艺的产品设计套件，预计2020年完成开发。与7nm技术相比，它使设计人员能够将芯片面积减少45％，功耗降低50％或性能提高35％。

金沙js5线路单片机开发工程师表示，基于GAA的节点工艺，未来可能会广泛用于汽车、人工智能和物联网等下一代应用中。这些功能更强大、效率更高的处理器将加速物联网（IoT）的普及。

事实证明，节点越小，收益最大的领域是处理器。例如，它们使物联网设备能够更快速地处理大量数据，降低了无人驾驶汽车等领域的自动化设备的准入门槛。随着物联网设备的广泛使用，以及AI和自动驾驶技术的越来越多的应用，纳米级节点尺寸正迅速成为技术进步的关键。

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