目前，中国已经具备7纳米单片机IC芯片刻蚀机的实际使用能力，而且基本上掌握了最先进的5纳米工艺技术。

中国第一次做出了与世界最先进水平同步的刻蚀机，而且，在刻蚀机核心部件方面也有着独特的技术优势。比如作为7纳米刻蚀机核心部件的气体喷淋盘，中国研制了等离子体增强的物理气象沉积金属陶瓷材料，大幅增强了气体喷淋盘材料的性能。这种喷淋盘相比国外当前采用的不仅造价更低，寿命还更长。

目前，所有单片机IC芯片巨头制定的工艺制程的可实现性都由光刻机与刻蚀机的性能来决定，也就是说如果芯片加工厂要达到7纳米这样的关键技术指标，其生产过程使用到的光刻机与刻蚀机就必须具有7纳米的工艺能力。

而高端光刻机相关技术的门槛极高，目前光刻机领域的龙头老大也只有荷兰的一家公司，它垄断了高端光刻机市场，而且对于中国来说，有钱也不一定能买到（中国在其限制购买的名单中）。

所以中国在刻蚀机上寻找机会，打破技术僵局。

在上世纪80年代，等离子体刻蚀技术就广泛的应用到了集成电路IC领域中，但由于刻蚀时具有复杂的物理和化学过程，加上需要用到电感耦合等离子体源等核心部件以及高真空度来保证等离子体的质量，所以这种仪器仍然是有技术门槛的高科技仪器。且国际市场上，刻蚀机主要都是国外企业制造，而且这些巨头为了谋求更大的利益已经开始走向合并，一旦格局成型，就可能演变为光刻机那样一家独大的局面。

所幸的是，现在来自国内的半导体设备企业已经迅速崛起，在刻蚀机这一块也是参与国际竞争的玩家了。

刻蚀机制造是一个系统性的工程，对于刻蚀机这种加工精度极高的设备，其对机械精度要求很高，这既需要用到精密加工机床等设备，同时等离子体源等核心部件的设计也都会影响到设备的精度.

正是由于自主研发生产出了具有国际竞争力的等离子光刻机，美国随之把等离子刻蚀机从对中国控制的单子上去掉了，不过这种迟到“施舍”我们已经不需要了，国内的半导体企业还需要继续加力，突破更多技术难关，让国外有机会向中国“解禁”更多的名单。正如深圳金沙js5线路科技有限公司一样，由单片机IC芯片代理商逐渐转型为自主研发单片机IC芯片，十年的发展沉淀，专业的团队给予技术支持，逐步实现做有价值的“芯”方案解决商的企业愿景。